解析X射線光電子能譜分析法的功能及應用領域

主要功能及應用領域：

主要用于固體材料的表面元素成份及價態的定性、半定量分析，固體表面元素組成的深度剖析及成像。可應用于金屬、無機材料、催化劑、聚合物、涂層材料礦石等各種材料的研究，以及腐蝕、摩擦、潤滑、粘接、催化、包覆、氧化等過程的研究。

主要附件：UPS、AES、SEM

主要特點：

1. 采用平均半徑165mm的半球型扇形能量分析器（Hemispherical Sector Analyzer，HSA）和180°球鏡能量分析器（Spherical Mirror Analyzer，SMA）。提高光電子的傳輸效率，增加能量分辨率。

2.羅蘭圓直徑500mm的大束斑Al單色X射線源和內置掃描板的多組元靜電透鏡。不移動X射線照射束斑和樣品，通過直接改變光電子的采集區域達到選區分析的目的。只要保證加在掃描板上的偏壓電路保持穩定，則采樣區域的重復就可以得到保證。

3.的磁沉浸透鏡和的低能電子荷電中和系統。由于大面積的X射線照射使得光電子發射相對分散，而且螺旋狀升降的電子云會地補償荷電效應，從而可以在操作上只需設置一個“普適”的中和參數，就可以適用于99%以上的絕緣樣品。

4.采用了新一代的128通道的率檢測器——延遲線檢測器（Delay-Line Detector，DLD），使得該儀器可以超快速分析，實現收譜、成像、快拍（Snap Shot）功能。成像模式能夠提供256×256像素、空間分辨率小于3μm的二維圖像。

1.氫、氦元素不能檢測；

2.樣品要求：

（a） 無磁性；

（b） 無放射性；

（c） 無毒性；

（d） 無揮發性物質（如單質Na, K, S, P, Zn, Se, As, I, Te, Hg或者有機揮發物），避免對高真空系統造成污染；不大量放氣（尤其腐蝕性氣體）；若含有高揮發性分子或者coating，請務必先自行烘烤抽除；

（e） 厚度小于2mm；

（f） 固體薄膜或塊狀固體樣品切割成面積大小為5mm×8 mm；

（g） 粉末樣品壓片（直徑小于8mm），如無法成形，粉末要研細，且不少于0.1g；

3.樣品處理注意事項：

（a） 樣品分析面確保不受污染，可使用異丙醇，丙酮，正己烷，或三氯甲烷溶液（均為分析純）清洗以達到清潔要求；

（b） 使用玻璃制品（如表面皿、稱量瓶等）或者鋁箔盛放樣品，禁止直接使用塑料容器、塑料袋或紙袋,以免硅樹脂或纖維污染樣品表面；

（c） 制備或處理樣品時使用聚乙烯手套，禁止使用塑料手套和工具以免硅樹脂污染樣品表面；
4.有關檢測結果的分析，中心提供分析軟件和手冊，指導用戶根據樣品情況自行處理。

5.送樣前請先根據樣品測試要求填好“XPS樣品信息登記表”，表格下載從中心表格下載處下載。